簡要描述:NanoSystem NV-3200非接觸式3D光學(xué)輪廓儀為LCD、IC Package、Substrate、Build-up PCB、MEMS,Engineering Surfaces等領(lǐng)域提供納米級別精度的測量.
產(chǎn)品分類
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品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
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產(chǎn)品種類 | 非接觸式輪廓儀/粗糙度儀 | 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 |
應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,電子,汽車,電氣 |
NanoSystem成立于2003年,為半導(dǎo)體、顯示器和其他精密機械行業(yè)提供了用非接觸式表面測量方法進(jìn)行測量的解決方案。 NanoSystem已經(jīng)建立了非接觸式2D、3D測量和檢測系統(tǒng)的核心技術(shù),并成為該市場解決方案的Leader。
高精度(Z軸分辨率達(dá)0.1nm)的非接觸式表面輪廓儀,采用白光掃描干涉技術(shù),使客戶有能力看到、理解和糾正或保持產(chǎn)品質(zhì)量。
NanoSystem NV-3200非接觸式3D光學(xué)輪廓儀為LCD、IC Package、Substrate、Build-up PCB、MEMS,Engineering Surfaces等領(lǐng)域提供納米級別精度的測量.
包括:非接觸3D形貌測量,更廣的測量范圍(5mm可選),自動聚焦功能(可選),拼接和線路縱斷面等功能。
NanoSystem NV-3200非接觸式3D光學(xué)輪廓儀技術(shù)參數(shù)
干涉物鏡:5物鏡可選(程控)
掃描范圍:0-180um(270um,5mm可選)
垂直分辨率:WSI:﹤0.5nm ,PSI :﹤0.1nm
橫向分辨率:0.2-4um(取決于物鏡和FOV)
傾斜度:±6°
工作平臺:NV-P2020 200X200mm(程控)
NV-P4050 400X500mm(程控)
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